浙江大學光刻浸液系統模型
浙江大學機械工程學院啟爾團隊，堅持十五年基礎研究和技術攻關，突破光刻機浸液系統設計制造關鍵技術，為高端光刻機國產化研制奠定了基礎。
浙江大學光刻浸液系統模型
浙江大學光刻浸液系統模型
光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為光、機、電一體化的超大型復雜系統，面臨著很多“卡脖子”技術難題。
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浙江大學光刻浸液系統模型
浙江大學機械工程學院啟爾團隊，堅持十五年基礎研究和技術攻關，突破光刻機浸液系統設計制造關鍵技術，為高端光刻機國產化研制奠定了基礎。
浙江大學光刻浸液系統模型
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光刻機是芯片制造的核心設備之一，作為光、機、電一體化的超大型復雜系統，面臨著很多“卡脖子”技術難題。
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